甲酸共晶炉
该设备拥有预热、加热、冷却（具备独立的工艺腔体）合用于功率半导体（IGBT？？？？？？？椤OSFET器件）、微电子混合组装、光电封装、气密性封装、晶圆级封装、UHB LED封装、MEMS封装等
选件：
共晶真空焊接急剧起落温、甲酸回收压力节造、工业推算机触摸屏质量流量计？？？？？？？榛杓
产品特点
本甲酸共晶炉选取预热区、加热区、冷却区等多腔体？？？？？？？榛峁梗，，，，， ，设备内置氮气/甲酸/氢气复合空气系统，，，，，，， ，选取数字式气体质量流量节造器（MFC）实显禅体混合比动态调节（甲酸浓度节造精度≤±3%），，，，，，， ，兼容焊片工艺与气态助焊协同作业；；；；；；；配置甲酸全流程安全治理系统，，，，，，， ，涵盖供气压力自适应赔偿、浓度在线监测及尾气冷凝回收单元，，，，，，， ，确保工艺过程甲酸的排放和回收；；；；；；；支持工艺曲线自界说编程，，，，，，， ，合用于IGBT芯片共晶焊接、高密度功率？？？？？？？榉庾啊iC无压银烧结等精密造作场景，，，，，，， ，合用于新能源汽车、光伏逆变器等高压大功率器件造作。 。。。。 。。
产品详情
| 系列 | 腔体数量 | 载具尺寸 | 有效高度 | 极限真空度 | 节造温区 | 空气 |
| HL-V100/300/400 | 单/三/多 | 410*280mm | 100mm | 10Pa | 450℃ | HCOOH/N2/H2/真空 |
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